京东方A获得发明专利授权: “X射线平板探测器及其制作方法、探测装置、成像系统”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示京东方Ａ（000725）新获得一项发明专利授权，专利名为“X射线平板探测器及其制作方法、探测装置、成像系统”，专利申请号为CN202011311373.2，授权日为2025年5月13日。

专利摘要：本申请提供了一种X射线平板探测器及其制作方法、探测装置、成像系统。X射线平板探测器包括：基底；背板层，位于基底上，包括若干薄膜晶体管，每一薄膜晶体管包括源漏极层。走线层，位于背板层远离基底一侧，包括若干连接线。感光器件层，位于走线层远离基底一侧，包括多个第一电极，每一第一电极通过一连接线与一薄膜晶体管的源漏极层，且感光器件层在基底上的正投影与背板层在基底上的正投影不重叠。本申请能够提高X射线平板探测器的填充率，进而能够提升X射线平板探测器的分辨率和探测性能；另外，连接线的设置能够进一步提升X射线平板探测器的分辨率，且能够实现背板层与不同尺寸的感光器件层的兼容，进而能够降低生产成本。

今年以来京东方Ａ新获得专利授权1603个，较去年同期增加了7.58%。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了131.23亿元，同比增15.94%。

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